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    BSEC光刻机研究院研究了杂质的来源，设法将原来的4000个缺陷减少为零。将镜头和晶圆浸水之前，先用表面活性液体浸泡，减少沾染。在晶圆的边缘设置密封环（sealring），避免水溢出，消除漩涡，将杂质带走，降低缺陷率。另一个方法是通过曝光流程的优化，大幅度降低不可复原的缺陷数量。

    浸润式技术在曝光时需要将镜头和晶圆曝光区域浸入水中，量测时却需要晶圆上没有水。双工作台系统不光将量测和曝光两道工序分开，还将干式量测和浸润曝光分开，几乎是为浸润式光刻机量身定做的。

    BSEC光刻机自动化研究所先后为2250i和3360i升级了磁悬浮式双工作台系统。

    BSEC在研发成功TWINSCANBNT:2250i后，向中国专利局和世界专利局同时申请了9项技术专利，其中2项核心技术专利。

    157nm光波的干式光刻机对环境要求相对简单，不需要考虑液体介质的纯度、流动性、对光刻胶和晶圆的影响等相关问题，工艺控制相对容易，设备的维护和保养也相对简单一些。

    由于157nm光波存在吸收效应，不能用水作为浸润介质，需要价格昂贵的氟化钙镜头，导致同制程的157nm光刻机比浸润式光刻机贵50%左右。

    “好的，董事长！”

    魏建国笑了。

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